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製品紹介

電解銅箔

  • 電解胴箔
  • CAC

電解胴箔

当社は、お客様の要望にあわせ、高品質の電解銅箔製品を開発し供給しております。

プリント回路基板の高密度化及びファインパターン化に対しては、エッチング特性に優れた両面フラット系のHLP箔並びに5μ厚~の極薄箔を量産化しております。なお極薄箔につきましては、AIキャリア有り、無しの両仕様で5μ厚からの供給を行っております。更に、半導体パッケージ基板用途でスタンダード化しているJTCLP箔、フォイルクラックの発生を抑制したJTCS箔などの高高温伸び箔、更には部品内蔵基板需要の高まりに伴い、抵抗つき特殊銅箔である TCR等、多彩な製品をラインナップしております。

製品一覧

JTC&JTCS 箔

当社オリジナルの代表的銅箔

  • プリント配線板用途として高い評価と実績を得た代表的な電解銅箔です
  • IPCグレード1(JTC)、IPCグレード3(JTCS)に相当します
  • 優れた機械・基板・外観特性、品質安定性を有し、安定した供給を実現しています
  • 独自のCu-Zn処理により耐熱性、耐薬品性を向上させています

JTCLP 箔

JTCロープロファイル銅箔

  • 粗化を適度に抑えた半導体パッケージ向けファインパターン用銅箔です
  • 12μ箔については2種類の粗化レベルをご用意しています
  • 独自のCu-Zn処理により耐熱性、耐薬品性を向上させています

RTCS&RTCSHP箔

光沢面処理銅箔

  • 多層化工程の簡略化、イールドアップが可能です
  • エッチング性の大幅な改善が可能となります
  • RTCSHP箔は、さらにピール特性を向上させます

JTCAM 箔

高強度ロープロファイル銅箔

  • 低いM面プロファイルによりファインエッチング性を実現します
  • 高張力によりハンドリング性を向上させます
  • 熱処理後も安定した機械特性を保持します
  • 高温下でも高い伸び特性を維持することによりフォイルクラックの発生を防止できます

HLPLC 箔

半導体パッケージ用超ロープロファイル箔

  • M面を極限まで平坦化したベース箔に微細処理を施した電解銅箔です
  • 優れた表面均一性とファインエッチング性を実現し、半導体パッケージ用に最適です
  • 高いM面フラット性により高周波領域における伝送特性改善できます

JTC 厚箔

大電流用銅箔

  • 車載向け等の用途で要求される大電流密度を可能にする熱特性を有しています
  • 均一な銅粗化粒子の形成により基板への安定した接着力を有します
  • S面では通常箔と同等の特性を有しています
  • 緻密で均一化された結晶構造を有します
  • 最大1296mmの広幅でのご提供が可能です

製品ラインナップ

ベース箔 グレード1 グレード3 AM
(高強度ロープロファイル箔)
HLP
(超ロープロファイル箔)
銅箔厚 5~400μm 5~105μm 9~35μm 8~35μm
トリート種類 JTC・JTCLP JTCS・JTCSHP
RTCS・RTCSHP
JTC HLPB・HLPLC
トリート面 M面 M面、S面 M面 M面

フラット箔要求に対応した製品開発

箔厚別製品ラインナップ

箔厚 Grade 1 Grade 3 AM HLP
μm
トリート
JTC LP JTCS RTCS HP RTCSHP JTC FN 無し 微細粗化
5              
7              
9      
10            
12  
18  
35    
70          
105            
140            
175              
210              
245              
280              
350              
400              

製造工程