磁性材
ハードディスク、磁気ヘッド用 スパッタリングターゲット
近年、ハードディスクドライブ（HDD）は、従来のPC用途に加えて、外付けストレージ、ハイビジョン画像保存用途が加わり、その需 要は飛躍的に伸びています。
また、急速な高密度化に対応して、2005年には従来の長手記録方式から垂直磁気記録方式となり、さらに次世代の記録技術開発も進んで います。
当社は、日々進展する技術ニーズに合わせ、常に最高品質のスパッタリングターゲットを供給しており、業界随一のサプライヤとしてお 客様の高い信頼をいただいております。
アプリケーション（HDDメディア<記録媒体>、磁気ヘッド）
当社製品ラインアップ
ハードディスクメディア用途（PMR)
| 記録層 | Co-Cr-Pt-X(-Y)(-Z), Co-Cr-Pt-B-X(-Y)(-Z), Co-Cr-Pt-Ru-X (-Y)(-Z), etc. ; X,Y,Z: Si-oxide, Ti-oxide, Cr-oxide, Ta-oxide, Co-oxide etc. Co-Cr-Pt(-B)(-Ru) |
|---|---|
| 中間層 | Ru, Co-Fe(-B) |
| 下地層 | Ni-W, Co-Cr etc. |
ハードディスクヘッド用途、およびMRAM用途
| Mn合金(Mn-Pt, Mn-Ir, Mn-Ir-Cr, etc.) （当社独自技術低酸素化） Ni合金 (Ni-Fe, Ni-Cr, Ni-Fe-Cr, Ni-Fe-X…) Co合金 (Co-Fe, Co-Fe-B, Co-Fe-X, Co-Cr-Pt, Co-Nb-Zr…) Others (Fe-Pt, Au-X, Heusler Alloys, MgO, Ru…) |
次世代ハードディスク用開発
| 熱（orマイクロ波）アシスト用、DTR用、BPM用、各種ターゲットの開発 |
当社ターゲットは、長年にわたり培われた各種製造技術を活かし、厳しい品質管理のもとで製造されております。
また、社内でのスパッタリング評価装置も導入済みであり、ターゲットのパフォーマンス向上、迅速な顧客開発支援を行っております。
当社製造技術および評価技術
| 溶解・鋳造 圧延 鍛造 粉末原料製造 粉砕・混合 粉末冶金 機械加工・表面仕上 貴金属精製 各種物性評価(XRD, EPMA, etc) スパッタリング評価 |
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≪対応ニーズ≫ 金属組織制御 透磁率制御 高密度 高PTF化・放電安定 低酸素不純物 酸素量安定化（酸化物入り製品） 加工歪み低減 迅速な特性評価、次世代開発 |
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パーティクルカウンター
スパッタリング装置（Canon ANELVA C-3010）
