スパッタリングターゲット

磁性材料用スパッタリングターゲット

当社の磁性材料用ターゲットは、主に磁気記録ハードディスク(HD)メディア用スパッタリングターゲットとして使用されています。近年、ハードディスクドライブ(HDD)は、データセンター、オンラインストレージ等、用途や装置の多角化に伴い、その需要は様々な広がりを見せています。また、ハードディスクメディアの急速な高密度化に対応して、現在の垂直磁気記録方式から、さらに次世代の記録技術開発も進んでいます。当社は、日々進展する技術ニーズに合わせ、常に最高品質のスパッタリングターゲットを供給しており、業界随一のサプライヤとしてお客様の高い信頼をいただいております。

種類 薄膜材料
主要製品 Co-Cr-Pt-Oxide…ターゲット、Fe-Pt…ターゲット、Mn合金ターゲット、Fe合金ターゲット
主な一次用途 ハードディスクメディア、ハードディスクヘッド、MRAM

特長

スパッタリング装置(Canon ANELVA C-3010)

当社ターゲットは、長年にわたり培われた各種製造技術を活かし、厳しい品質管理のもとで製造されております。また、社内でのスパッタリング評価装置も導入済みであり、ターゲットのパフォーマンス向上、迅速な顧客開発支援を行っております。

技術内容・特性

当社の磁性材料用スパッタリングターゲットは、高純度かつ均一な結晶組織であることに加え、磁性材料用スパッタリングターゲットに特有の磁気的な特性の制御においても、お客様より高い評価を頂いております。ハードディスクヘッド用スパッタリングターゲットは、磁気記録密度向上のキーデバイスであるGMRヘッド及びTMRヘッドの主要な材料として使用されています。当社は高度な冶金学的知識と豊富な経験の応用により、特徴のある製品群を市場へ送り出しています。これらのスパッタリングターゲットは次世代の不揮発半導体メモリであるMRAM製造に利用され始めています。

用途

他製品ラインナップ

記録メディア用

記録層 Co-Cr-Pt-Oxide1(-Oxide2)(-Oxide3)(-Oxide4)
Co-Cr-Pt-X1-X2-Oxide1(-Oxide2)(-Oxide3)(-Oxide4)
Co-Cr-Pt-B(-X1)(-X2)
X1,X2は金属、Oxide1,Oxide2、Oxide3、Oxide4は酸化物
中間層 Ni-W(-X)、Co-Cr(-X)、Co-Cr-Oxide1(-Oxide2)等
Xは金属、Oxide1,Oxide2は酸化物
下地層 Co-Fe(-X1)(-X2)、Co-Fe-B(-X)
X1,X2は金属

磁気ヘッド用途、及びMRAM用途

Mn合金 Mn-Pt, Mn-Ir, Mn-Ir-Cr, etc.(当社独自技術低酸素化)
Ni合金 Ni-Fe, Ni-Cr, Ni-Fe-Cr, Ni-Fe-X
Co合金 Co-Fe, Co-Fe-B, Co-Fe-X, Co-Cr-Pt, Co-Nb-Zr
その他 Fe-Pt, Au-X, Heusler Alloys, MgO, Ru

他製品との特性比較

当社製造技術および評価技術

溶解・鋳造
圧延
鍛造
粉末原料製造
粉砕・混合
粉末冶金
機械加工・表面仕上
貴金属精製
各種物性評価(XRD, EPMA, etc)
スパッタリング評価
《対応ニーズ》

金属組織制御
透磁率制御
高密度
高PTF化・放電安定
低酸素不純物
酸素量安定化(酸化物入り製品)
加工歪み低減
迅速な特性評価、次世代開発
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部署名
薄膜材料事業部 ターゲットユニット
磁性材担当
03-6433-6000(代表)

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