光学膜用スパッタリングターゲット

NS-LRシリーズ
(低屈折率ターゲット)

特長

当社オリジナルの低屈折率ターゲットで、以下の特長があります。

  • 低屈折率/高透過膜をDCスパッタで高速成膜可能です。
  • 酸素導入無しで高透過膜を形成できます。
  • アモルファス安定でバリア性能に優れております。各種保護膜としてのご採用にも適しています。

NS-LRシリーズ基礎特性

ターゲット名 DCスパッタ 雰囲気 スパッタレート n k
Å/sec 550nm 405nm 550nm
NS-LR-C3J OK Ar 1.94 1.74 0.001 0.000
2%O2 1.66 1.70 0.000 0.000
NS-LR-C3J-2〔開発品〕 OK Ar 1.72 1.65 0.000 0.000
2%O2 〔取得中〕
MgO(参考) NG Ar 0.15 1.74 - -

水蒸気透過率〔モコン法〕

SiO2を上回るバリア性有しています。

光学透過率

紫外域まで高透過率な膜を得られます。

耐熱性〔NS-LR-C3J〕

アニール温度(℃) n k シート抵抗 膜質(XRD)
550nm 405nm (Ω/sq)
R.T 1.74 0.000 >5000k Amorphous
240 1.73 0.000 >5000k Amorphous
400 1.73 0.000 >5000k Amorphous

高温下においても、特性変化を起こしません。

お問い合わせ
ウェブから

24時間受け付けております。