光学膜用スパッタリングターゲット

ZnS-DCシリーズ

特長

ZnSを基素材としたDCスパッタリング可能なターゲットです。光学ディスクの保護層として一般的に使用されているZnS-SiO2ターゲットなどの代替材料として使用可能です。

ZnS-DCシリーズ 製品一覧

ZnS-DC3 ZnS-DC8 ZnS-SiO2〔参考〕
組成 ZnS:90mol% ZnS:70mol% ZnS:80mol%
相対密度 ≧90% ≧90% ≧90%
バルク抵抗 20mΩcm
(DCスパッタ可)
300mΩcm
(DCスパッタ可)
>500kΩcm
(RFスパッタのみ)
ターゲット外観

ZnS-DCシリーズ 光学特性

Target Deposition Rate(Å/sec) λ=405nm λ=633nm
n k n k
ZnS-20mol%SiO2〔参考〕 2.1 2.28 0.001 2.22 0.0000
ZnS-DC3 3.8 2.58 0.110 2.26 0.0000
ZnS-DC8 3.1 2.22 0.010 2.07 0.0000

Sputtering Condition

Machine ANELVA SPL-500
Target Size 6inchφ×5mmt
T-S Distance 115mm
Temperature RT
Thickness 7000Å
Substrate Glass (Eagle2000)
Gas Ar+2%O2, 0.5Pa, 50sccm
Power Density 2.74W/cm2(DC,RF)
S-Rotation 25rpm
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